asystent

Wydział Inżynierii Chemicznej i Procesowej
Politechnika Warszawska
  • Miejsce: Warszawa
  • Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych
  • inżynieria chemiczna

Opis stanowiska

Pracownik musi wykazywać się teoretyczną i praktyczną znajomością zagadnień związanych z układami koloidalnymi, umiejętnością prowadzenia procesów wytwarzania nanostruktur oraz pomiarów właściwości mikro- i nanocząstek. Musi posiadać praktyczną umiejętność obsługi oraz wykonywania czynności związanych z konserwacją aparatury laboratoryjnej wykorzystywanej w preparatyce, separacji oraz charakteryzowaniu ciekłych i gazowych układów koloidalnych. Kompetencje badawcze powinny być potwierdzone m.in. publikacjami naukowymi i prezentacjami na konferencjach naukowych. Ponadto od kandydata oczekuje się doświadczenia w skutecznym aplikowaniu o granty badawcze ze źródeł zewnętrznych oraz w kierowaniu projektami badawczymi. Pożądane jest także doświadczenie w pracy naukowo-dydaktycznej na uczelni wyższej o profilu technicznym. Na stanowisku asystenta może być zatrudniona jedynie osoba nie posiadająca stopnia doktora.
Wymienione dokumenty należy składać w Sekretariacie Wydziału Inżynierii Chemicznej i Procesowej, ul. Waryńskiego 1, 00-645 Warszawa, tel. +22 8251440; e-mail: sekretariat.ichip@pw.edu.pl. Bliższych informacji udziela: mgr Anna Lewczuk, e-mail: sekretariat.ichip@pw.edu.pl. Rozstrzygnięcie Konkursu nastąpi w terminie do dnia 29.06.2018 r. Politechnika Warszawska zastrzega sobie prawo do zamknięcia konkursu bez wyłonienia kandydata. Niepoinformowanie kandydata o wynikach konkursu jest równoznaczne z odrzuceniem jego oferty. Wygranie konkursu nie jest gwarancją zatrudnienia.