Opis stanowiska
Nabór kandydatów na
STYPENDIUM NAUKOWE
Laboratorium Technologii Nowych Materiałów Funkcjonalnych
Projekt NCN OPUS
Hi-Ox: Podróż do rdzenia atomu – przełamywanie barier dostępnych stopni utlenienia atomów metali
Panel ST4
Przedmiotem badań są teoretyczne rozważania nad możliwością osiągnięcia nietypowych bardzo wysokich formalnych stopni utlenienia (rozebranie atomów aż do elektronów rdzenia) w wybranych azotkach, tlenkach i fluorkach metali przejściowych i lantanowców.
Kwalifikacje kandydatów:
• student 4 roku kierunków chemicznych, lub fizyki,
• b. dobra znajomość j. angielskiego
• znajomość systemu operacyjnego typu UNIX na poziomie co najmniej użytkownika
• umiejętność programowania w dowolnym języku,
• mile widziana znajomość programów do obliczeń kwantowo-chemicznych oraz metod chemii obliczeniowej i podstaw teori chemii kwantowej,
• wysoka motywacja, systematyczność, umiejętność analitycznego myślenia i pracy w zespole
Zgłoszenie powinno zawierać:
• życiorys (CV)
• list motywacyjny
• listę publikacji naukowych, stypendiów i nagród
• listę konferencji, w których brał udział Kandydat wraz z tytułami i autorami wystąpień
• staże i praktyki zawodowe, inne osiągnięcia
Warunki zatrudnienia:
• realizacja i obrona pracy magisterskiej z tematu projektu
• 2 stypendia w wysokości od 500 do 2000 PLN miesięcznie, przez okres 2 lat, uzależnione od kwalifikacji kandydatów.
Zgłoszenia należy przesyłać na adres do godz. 24:00, piątek 24.11.2017:
Uniwersytet Warszawski
Centrum Nowych Technologii
ul. Banacha 2c, Pokój 5043
02-097 Warszawa
lub pocztą elektroniczną na adres (proszę wpisać “Hi-Ox aplikacja” w tytule maila):
pawel.szarek@cent.uw.edu.pl
rozstrzygnięcie 31.11.2017 po rozmowach kwalifikacyjnych